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  • XMD2000甘草粉制備用超高剪切研磨分散機

    甘草粉制備用超高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS2000多壁碳納米管導電劑分散機

    多壁碳納米管導電劑分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000硬脂酸鈣濕法高剪切研磨分散機

    硬脂酸鈣濕法高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000鐵紅鐵粉超高速研磨分散機

    鐵紅鐵粉超高速研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS000水性墨水納米高剪切分散機

    水性墨水納米高剪切分散機 轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000顆粒調剖劑管線式分散機

    顆粒調剖劑管線式分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000絕熱涂料超高速研磨分散機

    絕熱涂料超高速研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS2000釩酸鉍高剪切研磨分散機

    釩酸鉍高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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