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產(chǎn)品展示/ Product display
醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
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醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨
醫(yī)藥膠囊膠體磨,膠囊膠體磨 醫(yī)藥乳液膠體磨,軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機,軟膠囊內(nèi)容物膠體磨,膠囊膠體磨,改良型膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠體磨,此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達14000rpm,并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤,先研磨后分散,物料粒徑更細,更穩(wěn)定!
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴密、用量精確、生物利用度高,藥物的穩(wěn)定性也得到提升,此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明,口服制劑的生物利用度,以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊,混懸液次之,再次為含顆粒的硬膠囊,差為片劑。
近年來,超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域,通過研究發(fā)現(xiàn),藥材經(jīng)過超微化粉碎后,粉末粒徑大小分布均勻,球性度和均質(zhì)度明顯改善,這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中,質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展,對于膠囊的內(nèi)容物的處理,出現(xiàn)的大量的設(shè)備,如:膠體磨、均質(zhì)機、分散機等。這些設(shè)備通過對內(nèi)容物的剪切,從內(nèi)容物粒徑更加細化,粉末分散更加均勻。而ikn應(yīng)對這種情況,研發(fā)出了的設(shè)備,改良性膠體磨,該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點,將二者一體,形成的設(shè)備,我們也將它定義為“研磨分散機”
研磨分散機,對于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢,對于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效,無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液,都可以將物料充分的細化,提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭,IKN改良型膠體磨,研磨分散機,有一級膠體磨頭和一級分散盤,對物料先研磨后分散機,再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速,乳液粒徑一般可細化至1-2微米,混懸液一般可細化至3-5微米,當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。
XMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是希德公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
改良型膠體磨,研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
XMD2000系列軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨
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