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產(chǎn)品展示/ Product display

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組織勻漿研磨均質(zhì)乳化機(jī)

組織勻漿研磨均質(zhì)乳化機(jī)粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問  量:2241
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詳細(xì)介紹

組織勻漿研磨均質(zhì)乳化機(jī),組織勻漿實(shí)驗(yàn)室乳化機(jī),組織勻漿高剪切乳化機(jī),組織勻漿破碎乳化機(jī)

 

一、組織破碎

組織破碎提取法是在室溫液體溶劑中利用高速破碎、高速研磨、高速攪拌和超分子滲透技術(shù),數(shù)分鐘內(nèi)對(duì)藥材進(jìn)行組織破碎、研磨至細(xì)微顆粒,從而達(dá)到快速提取的效果。

 

二、機(jī)械法高剪切組織勻漿的制備

1、取組織塊(0.2g~1g)少可到2~5mg,在冰冷的鹽水中漂洗,除去血液,濾紙拭干,稱重,放入5或10ml的小燒杯內(nèi) 

2、用移液管量取預(yù)冷的勻漿介質(zhì)(ph7.4,0.01mol/L Tris-HCL, 0.0001MOL/LEDTA-2Na,0.01mol/L蔗糖0.8%的氯化鈉溶液)或者用0.86%冷鹽水,勻漿介質(zhì)或鹽水的體積總量應(yīng)該是組織塊重量的9倍,用移液管或移液器取總量的2/3的勻漿介質(zhì)或鹽水于燒杯中,用眼科小剪盡快剪碎組織塊(天然時(shí)操作要在冰水浴中進(jìn)行,將盛有組織的小燒杯放入冰水中)。 

3、勻漿的方式有多種:手工勻漿、機(jī)器勻漿、超聲勻漿、反復(fù)凍融。 

手工勻漿:將剪碎的組織倒入玻璃勻漿管中,再將剩余的1/3勻漿介質(zhì)或鹽水沖洗殘留在燒杯中的碎組織塊,一起倒入勻漿容器中進(jìn)行勻漿,左手持勻漿管將下端插入盛有冰水混合物的器皿中,右手將搗桿垂直插入套管中,上下轉(zhuǎn)動(dòng)研磨數(shù)十次(6~8分鐘),充分研碎,使組織勻漿化。 機(jī)器勻漿:用組織搗碎機(jī)10000~28000r/min上下研磨制成10%組織勻漿,也可用內(nèi)切式組織勻漿機(jī)制備(勻漿時(shí)間10秒/次,間隙30秒,連續(xù)3~5次,在冰水中進(jìn)行),皮膚、肌肉組織等可延長(zhǎng)勻漿時(shí)間。 

超聲粉碎:用超聲粉碎機(jī)進(jìn)行粉碎,可用Soniprep150型超聲波發(fā)生器以振幅14微米超聲處理30秒使細(xì)胞破碎,也可用國(guó)產(chǎn)超聲波發(fā)生儀,用40安培,5秒/次,間隙10秒反復(fù)3~5次。 反復(fù)凍融:培養(yǎng)或者分離的細(xì)胞可以用以上的方法勻漿,也可以反復(fù)凍溶3次左右(即讓細(xì)胞加適量的低滲液或者雙蒸水放低溫冰箱中結(jié)冰,溶解,再結(jié)冰,再溶解,反復(fù)3次左右),但有部分酶活力會(huì)受影響。 

取少量組織勻漿做涂片(直接涂片、染色均可),顯微鏡下觀察細(xì)胞是否磨破,若沒有破則可以延長(zhǎng)勻漿時(shí)間或增加凍融次數(shù)。 

4、將制備好的10%勻漿用普通離心機(jī)或低溫低速離心機(jī)3000r/min左右離心10~15分鐘,若檢測(cè)ATP酶,則只需要1000轉(zhuǎn)/分,離心5分鐘,將離心好的勻漿留下上清棄下面沉淀。 根據(jù)你的實(shí)驗(yàn)需要,取適量上清夜進(jìn)行各種測(cè)定。 

 

三、組織勻漿研磨均質(zhì)乳化機(jī)

XMD2000/4是一款集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體的分散設(shè)備,在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè):白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī);食品行業(yè):植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等;都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。

XMD2000/4研磨分散機(jī),電機(jī)功率:4kw,轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm,處理在0-300L,設(shè)備體積較小,可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。

XMD2000/4研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備,先研磨后分散,效率高效果好。

設(shè)備結(jié)構(gòu):

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

 

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

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