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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD石墨烯導(dǎo)電漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯導(dǎo)電漿料研磨分散機(jī)線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

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  • XMD石墨烯水性涂料研磨分散機(jī)

    石墨烯水性涂料研磨分散機(jī)線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

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  • XMD光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

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  • XMD納米白炭黑管線式分散機(jī)

    納米白炭黑管線式分散機(jī)透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • XMD納米金屬氧化物研磨分散機(jī)

    納米金屬氧化物研磨分散機(jī)是將物料進(jìn)行一個(gè)全局的混合分散剪切,物料從儲(chǔ)料罐中進(jìn)入到工作腔體進(jìn)行360度高頻次的剪切、分散、撞擊、摩擦,因此物料更細(xì)、分散穩(wěn)定性更好。當(dāng)然還有設(shè)備加工經(jīng)度、物料粘稠度、物料原始粒徑、溫度、是否有添加劑等眾多影響因素。

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  • XMD石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)

    石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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  • GTE罐釜內(nèi)批次式高剪切乳化分散機(jī)

    罐釜內(nèi)批次式高剪切乳化分散機(jī)是一種安裝在反應(yīng)釜底部的粉碎乳化均質(zhì)設(shè)備,主要應(yīng)用于必須避免強(qiáng)烈水涌和氣泡產(chǎn)生的工作條件,并且更有效地解決其它設(shè)備無法解決的釜底沉積物的粉碎乳化等問題。

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  • XRS磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)

    磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)處理磷酸氫鈣,磷酸氫鈣+水,然后通過SID高剪切分散機(jī)進(jìn)行研磨均質(zhì)處理,可獲得相應(yīng)粒徑要求,并且粒徑均勻性高,效率高。

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